Produkter Beskrivelse
Karakteristika ved vanadiummål
Formen af vanadiummål: fladt runde mål, fladt firkantet mål, roterende mål, speciel formet tilpasning
Renhed af vanadium mål: 99%, 99,9%
Dimensioner af vanadiummål: behandlet efter kundebehov
Forberedelsesproces med vanadiummål
1. Klip vanadium -ingoterne, der opfylder renhedskravene og målstørrelsen ved hjælp af en vandret savmaskine. Første forvarm ved 450-500 grad, derefter smed og kontroller den samlede deformationshastighed for smedning til 70-80%;
2. udglødning Vanadium ingot opnået ved smedning, udglødningstemperaturen er 400-500 grad, holdetiden er 60-120 min og afkøles derefter med luftkøling;
3. rulle vanadium ingot opnået ved udglødning, og kontroller det presserende beløb for hver pas til 0. 5-1 mm, og kontroller den samlede deformation til 70-80%, indtil vanadiummålet blankt af den krævede diameter og tykkelse opnås;
4. udglødning Vanadiummålettet, der er opnået ved at rulle igen, udglødningstemperaturen er 450-550 grad, holdetiden er 90-150 min, og vandkøling udføres efter annealing igen for at opnå den krævede højrulighed Vanadium-mål tom.
Anvendelse af vanadiummål
1.Semiconductor and Integrated Circuit Manufacturing
Bruges til at deponere barriere lag for at beskytte de nedre lagmaterialer mod diffusionen af de øverste lagmaterialer, hvilket forbedrer enhedens pålidelighed og ydelse
2. Solære celler
I solar tyndfilmceller bruges vanadiummål til at fremstille effektive lysabsorptionslag til at forbedre cellernes fotoelektriske konverteringseffektivitet.
3. Flat-panelskærme
Bruges til fremstilling af fladskærmskærmbelægninger for at forbedre visningseffekter og holdbarhed.
4.elektronik og halvlederfelter
I elektroniske enheder kan vanadiummål bruges til at deponere metalfilm med høj renhed for at forbedre ledningsevnen og stabiliteten af elektroniske enheder.
Brugt inden for solenergi, fladpanelskærme, elektronik og halvledere, såsom integrerede kredsløb, bagplan-metallisering, optoelektronik og andre applikationer.
