
Nikkel Titanium Sputtering Target
2. Produktnavn: Nikkel titanium sputtering mål
3. Element Symbol: Ni plus Ti
4.Renhed:3N,4N
5.Shape: Planar sputtering mål
Produktbeskrivelse
Nikkel titanium (NiTi) legering sputtering mål Beskrivelse
Det strålende forstøvningsmål af sølvlegering og forstøvningsmålet i nikkeltitan har begge renhedsniveauer på over 99,9 procent, smeltepunkter på 1310 grader og tætheder på 6,45 g/cm3. Superelasticitet eller pseudoelasticitet såvel som formhukommelse er kendetegn ved denne legering. Dette indikerer, at denne specielle metallegering udviser fremragende elasticitet under tryk og kan genkalde sin oprindelige form. De mest karakteristiske egenskaber ved denne legering er dens formgenkaldelse og ekstreme elasticitet. Når det opvarmes til over sin transformationstemperatur, kan metallet "huske" og bevare sin oprindelige form takket være dets formhukommelsesegenskaber. Krystalstrukturerne af nikkel og titanium varierer, hvilket er årsagen. Utrolig elastisk, mellem 10 og 30 gange mere elastisk end noget almindeligt metal, demonstreres også af dette pseudo-elastiske metal.

Nikkel Titanium Sputtering Target Egenskaber (teoretisk)
| Udseende | Mål |
|---|---|
| Smeltepunkt | N/A |
| Kogepunkt | N/A |
| Massefylde | N/A |
| Opløselighed i H2O | N/A |
Produkter applikationer
Nitinol sputtering mål applikationer
Formhukommelseslegering bruges i vid udstrækning i mange industrier, herunder maskiner, bygning, rumfart, biler og medicinsk behandling, fordi den har fordelene ved super elasticitet, høj dæmpning, slidstyrke og korrosionsbestandighed ud over dens specielle formhukommelsesfunktion.
Virksomhedens fordele
Nikkel Titanium Sputtering Targets med høj renhed med den størst mulige tæthed er en specialitet af Baoji Yusheng Metal. Til brug i halvleder-, kemisk dampaflejring (CVD), fysisk dampaflejring (PVD), display og optiske applikationer, er metalliske sputtering-mål med den højeste renhed (99,99 procent) og mindste typiske kornstørrelser tilgængelige. Med plane måldimensioner og konfigurationer op til 820 mm er vores industristandard sputtermål til tyndfilm tilgængelige som monoblok eller bundne produkter. De har hulboreplaceringer, gevindskæring, affasning, riller og bagside, der er designet til at fungere med både traditionelle forstøvningsenheder og nyere procesudstyr.
Vi leverer mål i alle konfigurationer og former, inklusive cirkulære, rektangulære, ringformede, ovale, "hundeben", roterbare (roterende), flerfliser og andre i standard-, brugerdefinerede og undersøgelsesstørrelser, som alle er kompatible med alle standard våben. De mest effektive metoder, såsom X-Ray Fluorescence (XRF), Glow Discharge Mass Spectrometry (GDMS) og Inductively Coupled Plasma, bruges til at undersøge alle mål. (ICP). "Sputtering" er den kontrollerede fjernelse og omdannelse af målmaterialet til en rettet gas-/plasmafase gennem ionisk bombardement, hvilket muliggør den tynde lagaflejring af et sputterende metallisk eller oxidmateriale af ekstrem høj renhed på et andet fast substrat. Krystallisation, fast tilstand og andre ekstremt høje oprensningsprocesser som sublimering bruges til at fremstille materialer.

Populære tags: nikkel titanium sputtering mål, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, køb, pris, tilbud, kvalitet, til salg, på lager
Et par af
Niob Kvadrat MålDu kan også lide
Send forespørgsel











